ソリューション

BISTel の機器エンジニアリングシステム(EES)ソリューションスイートには、提供する幅広いリアルタイムの監視および制御アプリケーションが含まれています。

• 大規模データを実用的な製造知識知能へ変換
• 生産性をさらに高めるための装置、プロセス、および技術者間の連結性
• 歩留まりに影響を与えるイベントから保護することにより高歩留まりを保証

* プロセス装置
クラスターツール、インラインツール、測定ツールなど

* 外部システム
生産管理システム、資材管理システム、欠陥分析、歩留まり分析など

リアルタイム監視ソリューション

eFDC

eFDC は装置データを監視してリアルタイムで障害を特定し、生産を最大化し、スクラップを削減します。

– 様々なソースからデータを収集できる集中化されたデータ収集計画
– 誤警報の削減に役立つデータ品質指標
– 単一変数分析と多変数分析の両方をサポート
– 装置の性能比較のためのグラフィカル機器フィンガープリント
– 内装 EES プラットフォームの禁止管理プログラム
– 検出された問題をリアルタイムでSMS/メール通知
– 高度なデータアーカイブとサマリーレポート

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リアルタイム監視ソリューション

eSPC

eSPCは、プロセスの異常を検出して製品の歩留まりを向上させる強力なツールを提供します。

– SEMI 標準 SPCルールを含む60以上のSPCルールが利用可能
– モデルの自動作成と調整
つまり、モデルはドリフトするパラメーターに自動的に適応できます
– 履歴データに対するSPCモデルシミュレーション
– OCAP機能には、アラーム、LOT ホールド、EQPホールドなどが含まれます
– 分析を簡素化する直感的なチャート

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最適化および制御ソリューション

eR2R

eR2R は、レシピ値を計算および調整して、安定したプロセス制御と高い歩留まりを確保します。

– R2Rモデリング用のグラフィカルワークフローデザイナー
– 高度なモデリング作成を可能にするワークフロー機能の豊富なライブラリ
– 動作中にモデルをシステムにアップロード可能
– モデルを簡単に共有して、ファブ全体への迅速な展開が可能

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最適化および制御ソリューション

eMPA

eMPA は工場の生産性とOEEを改善してROI を最大化する

– 装置の性能を知的に追跡して、生産中の時間損失を特定する
– トレース時間の分析と阻止
– 装置の種類に関係なく、すべての生産モデルで効果的
– E10-RAM、E58-ARAMS、E79-OEE、およびE116-EPTIを含むすべてのSEMI標準に準拠

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メンテナンスおよび管理ソリューション

eRMS

eRMSは、プロセスレシピを効果的に管理し、操作エラーを最小限に抑えます。

– パラメータセット値、機器定数、レシピシーケンスなどを含むアクティブレシピの検証
– 一元管理とファブ中心の統合を可能にするファブ全体のレシピ管理
– パラメータベースのレシピ制御
– SEMI E42標準に準拠

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メンテナンスおよび管理ソリューション

ePPM

ePPMは、効果的な予防管理によりダウンタイムとコストを削減します。

– 部品の目録と使用率の管理
– ジョブの自動作成とPMスケジューリングを可能にするMESおよびERPシステムとのシームレスな統合
– 条件ベースのメンテナンス作業指示書は、FDCアラームによって生成可能
– 装置のメンテナンスおよび操作履歴に関する広範囲なレポート機能

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