解决方案

BISTel 设备工程系统(EES)解决方案套件包括许多实时监控和控制应用,提供:

• 将大数据转变为可行的制造智能
• 设备、流程和工程师相互连通,进一步提高生产力
• 通过防止发生良率影响事件来保障高良率

* 过程设备
汇聚和分类工具,In-line工具,测量工具等

* 外部系统
制造执行系统,物料控制系统,缺陷分析,良率分析等

实时监控解决方案

eFDC

eFDC 监控设备数据,实时识别故障,在最大程度上提高生产力和减少废品

– 能够从不同来源采集数据的集中式数据采集计划
– 提供数据质量指标,帮助减少误报警
– 支持单变量和多变量分析
– 用于设备性能比较的图形化设备指纹识别
– 整个 EES 平台的禁制管理器
– 检测到问题后发送实时短信/电子邮件通知
– 高级数据存档和摘要报告

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实时监控解决方案

eSPC

eSPC 提供检测流程异常以提高产品良率的强大工具

– 可用的 60+ SPC 规则,包括 SEMI 标准 SPC 规则
– 自动创建和微调模型
即:模型能够自动适应漂移的参数
– 利用历史数据建立 SPC 模型仿真
– OCAP 功能,包括报警、批次锁定和设备锁定等
– 用于简化分析的直观绘图

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优化和控制解决方案

eR2R

eR2R 计算和调整工艺程序值,以确保稳定的流程控制和高良率

– 用于批次(R2R)建模的图形化工作流设计器
– 支持高级建模的丰富工作流功能库
– 可以将模型上传至运行中的系统
– 可以轻松共享模型,以便快速部署到整个晶片厂中

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优化和控制解决方案

eMPA

eMPA 提高工厂生产力及 OEE,从而最大化投资回报(ROI)

– 智能跟踪设备性能,以找出生产过程中的时间损失
– 基片追溯时间的分析与禁制
– 适用于所有生产模型,不受工具类型的影响
– 符合所有 SEMI 标准的要求,包括 E10-RAM、E58-ARAMS、E79-OEE 和 E116-EPTI

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维护和管理解决方案

eRMS

eRMS 有效管理流程工艺程序,可将操作错误降至最低水平

– 验证现行工艺程序,包括参数设定值、设备常量和工艺程序序列等
– 整个晶片厂的工艺程序管理,支持集中式控制和以晶片厂为中心的集成
– 基于参数的工艺程序控制
– 符合 SEMI E42 标准要求

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维护和管理解决方案

ePPM

ePPM 通过有效的预防性管理减少停机时间和成本

– 部件库存和利用率管理
– 与 MES 和 ERP 系统无缝集成,允许自动创建作业和计划预防性维护(PM)
– 通过 FDC 报警生成基于条件的维护工作订单
– 有关设备维护和操作历史的丰富报告功能

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